Характеристики и описание
- Производитель
- Страна производительНидерланды
Системы нанолитографии от Crestec обладают следующими характеристиками:
- ускоряющие напряжение до 130 кВ
- минимальная ширина линии 5 нм
- диаметр пятна до 16 нм
- диаметр пластин до 200 мм
- полевой катод ZrO/W
- ручная загрузка
- размер поля 30 мкм, 60 мкм, 120 мкм, 300 мкм, 600 мкм, 1200 мкм, 2400 мкм
- векторное сканирование (x, y)
- векторное сканирование (R, f)
- растровое сканирование
- компактные размеры системы
- термостатированный кожух
- минимальные затраты на подготовку помещения
Система электронно-лучевой литографии высокого разрешения Crestec CABL-9000 / CABL-UH
Под заказ
Цену уточняйте
Минск ∙
Доставка
Оплата и гарантии